一、研究方向
以典型微纳光学元件为牵引，突破微纳光学器件制造的关键性技术，探索大面积微纳光学元件在激光加工、多信息成像、新型显示等行业领域的应用。
二、核心技术
1、高性能微纳光学元件逆向设计理论与技术
2、大面积微纳光学元件批量化制造工艺
3、单片集成微纳光学元件模块及系统应用
三、主要成果
研究团队已在极端微纳制造及微纳光学研究领域取得了系列阶段性成果，承担及参与国家重大专项、国家自然科学基金十余项，已开发亚10 nm尺度电子束光刻和跨尺度微纳制造工艺，发展多功能微纳光学元件设计体系，并实现多类平面光学元件的原型展示及装备样机应用。
四、未来计划
以国家重大工程及高端装备“光机电系统微型化”为核心目标，打造国内外一流的微纳光学设计、制造平台及应用中心，开发微纳光学制造新原理、新方法和新工艺，实现微纳光学元件及装备的原理验证、工程应用及产业化。